某电子器材元电子开关元件研制客户地处长角形的地方，重要加工融合电路系统板、半导体材料开关元件等单位产品。在加工工作中，操作氢氧化钠参与硅片清洁工作和蚀刻，发生丰富含氟废污水。在偏远地区的环保耍求严要求，氟化物摆放规定值为8mg/L，客户急需用钱投建正规专业治理建筑设施。 污废水 有效成分及由来 生产废水基本源于六个部分：硅片磷化工艺流程（氟含量值120-150mg/L）、环保设备擦洗水（氟含量值80-100mg/L）及生产线上屋面难以清理水（氟含量值30-50mg/L）。除氟化物外，生产废池中还有氢化物发生器巨资属（铜、镍）、有机会物（异丙醇）及酸碱平衡化学物质，pH值价格波动在2-4范围内。 加工处理加工工作流程 采取"预加工+物理化学奠定+高度油烟净化器"组和加工制作工艺 ： 调准池 ：自身各车间管理废液，实施水污染供水量平均，pH调结至6- 混泥土沉积 ：加药系统氯化钙（CaCl₂）和缩聚氯化铝（PAC），确立氟化钙沉积 二沉池体现 ：参与聚乙烯塑料酰胺（PAM）强化絮体沉降效能 斜板沉定池 ：推动固液隔离，上清液加入下一步骤 活性酶炭吸附物 ：彻底清除剩余的生产物和少量血本属 砂滤操作系统 ：进两步挪作他用悬屏物 pH回调函数 ：狠抓水流pH在6-9标准内 进而郊果 系统性稳定的自动运行后的检测数值体现 ：氟化物氧化还原电位从进水量对数正态分布110mg/L降落到5.2mg/L，出掉率达95.3%；COD从85mg/L降落到20mg/L以内；巨资属占比均不超直接排放物准则。建设项目加盟约280万美金，吨水清理成本费用3.8元，完完全全需求《污水渗漏合理直接排放物准则》（GB8978-1996）特一级准则。